Samsung Foundry aranjează acum ultimele detalii pentru dezvoltarea procesului de fabricaţie 5LPE (5nm low-power early), rezervat pentru prima generaţie de chip-uri pe 5nm. Noua tehnologie se bazează pe echipamentele existente cu litografie EUV (extreme-ultraviolet) şi ar trebui să fie gata pentru producţie la volum mare în cursul anului 2020.
Primele chip-uri de test produse folosind tehnologia 5LPE sunt SOC-uri entry-level conţinând nuclee de procesare ARM Cortex-A53 şi Cortex-A57, bazate pe tranzistori cu tehnologie FinFET. Noul proces de fabricaţie este aşteptat să livreze chip-uri cu 25% mai dense decât tehnologia pe 7LPP (7nm) folosită în prezent. În faza actuală, acestea pot oferi un consum de energie cu 20% mai mic, sau 10% mai multă performanţă păstrând neschimbată eficienţa energetică. Desigur, procesul 5LPE reprezintă doar prima versiune a litografiei pe 5nm, câştiguri suplimentare la partea de performanţă şi eficienţa consumului de energie urmând să fie obţinute cu reviziile viitoare.
Potrivit zvonurilor circulate din surse apropiate companiei, chip-urile cu proces de fabricaţie 5LPE folosesc mai multe straturi EUV decât cele din generaţia 7LPP, complexitatea mărită fiind în primă fază acomodată la fab-ul Samsung EUV din oraşul sud-coreean Hwaseong. Adaptarea facilităţilor de producţie are un cost estimat la 4.615 miliarde dolari şi va fi încheiată până la finalul acestui an, producţia de chip-uri pe 5nm urmând să fie asigurată la capacitate maximă încă de la începutul anului viitor.